先进光刻胶材料化学简介

2020.12.22

投稿:高珊部门:材料科学与工程学院浏览次数:

活动信息

时间: 2020年12月25日 14:10

地点: 校本部J101教室

报告内容简介:简述先进光刻胶材料(用于芯片制造)的发展历史,重点介绍先进光刻胶的材料化学以及企业研发与高校研发的区别。

报告人姓名:毛国平

报告人简介(中文):毛国平博士,现任善仁(浙江)新材料科技有限公司首席技术官CTO。主要从事电子材料方面的研发和产品开发,在双光子材料、微复制、镶嵌式电容、燃料电池催化剂、及LCP软板等领域都有一定的成果;共发表论文23篇,他引3千次。2016年秋回国从事先进光刻胶的开发与产业化。

报告人单位(中文):善仁(浙江)新材料科技有限公司

主办单位:8188威尼斯娱人城材料学院

联系人:高彦峰